прадукты
-
Пласціна з дакладнымі шчылінамі з храмаваным пакрыццём
матэрыял:B270i
Працэс:Двайныя паверхні паліраваныя,
Адна паверхня з храмаваным пакрыццём, двайныя паверхні з AR-пакрыццём
Якасць паверхні:20-10 у вобласці ўзору
40-20 на знешняй тэрыторыі
Ніякіх адтулін у храмаваным пакрыцці
Паралелізм:<30 ″
фаска:<0,3*45°
храмаванае пакрыццё:T<0,5% @ 420-680 нм
Лініі празрыстыя
Таўшчыня лініі:0,005 мм
Даўжыня лініі:8 мм ±0,002
Зазор паміж лініямі: 0,1 мм±0,002
Падвойная паверхня AR:T>99% @ 600-650 нм
Ужыванне:Святлодыёдныя праектары малюнкаў
-
ND фільтр для аб'ектыва камеры на беспілотніку
Фільтр ND, звязаны з акном AR і палярызацыйнай плёнкай. Гэты прадукт распрацаваны, каб зрабіць рэвалюцыю ў тым, як вы здымаеце выявы і відэа, забяспечваючы беспрэцэдэнтны кантроль над колькасцю святла, якое трапляе ў аб'ектыў камеры. Незалежна ад таго, ці з'яўляецеся вы прафесійным фатографам, відэааператарам ці проста аматарам, які хоча палепшыць сваю фатаграфічную гульню, наш звязаны фільтр - ідэальны інструмент для паляпшэння вашага творчага бачання.
-
Паласавы фільтр 1550 нм для далямера LiDAR
Субстрат:HWB850
Памяркоўнасць: -0,1 мм
Допуск па таўшчыні: ±0,05 мм
Плоскасць паверхні:3(1)@632,8 нм
Якасць паверхні: 60/40
Краі:Грунт, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Чыстая дыяфрагма: ≥90%
Паралелізм:<30”
Пакрыццё: Паласапрапускальнае пакрыццё @ 1550 нм
CWL: 1550±5 нм
FWHM: 15 нм
T>90% @ 1550 нм
Даўжыня хвалі блока: T<0.01%@200-1850nm
AOI: 0° -
Паласавы фільтр 410 нм для аналізу рэшткаў пестыцыдаў
Субстрат:B270
Памяркоўнасць: -0,1 мм
Допуск па таўшчыні: ±0,05 мм
Плоскасць паверхні:1(0,5)@632,8 нм
Якасць паверхні: 40/20
Шырыня лініі:0,1 мм і 0,05 мм
Краі:Зазямленне, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Чыстая дыяфрагма: 90%
Паралелізм:<5»
Пакрыццё:T＜0,5% пры 200-380 нм,
Т＞80%@410±3 нм,
ПШПВ＜6 нм
Т＜0,5% @ 425-510 нм
Мацаванне:так
-
Прыцэльная сетка з падсветкай для прыцэлаў
Субстрат:B270 / N-BK7 / H-K9L / H-K51
Памяркоўнасць:-0,1 мм
Допуск па таўшчыні:±0,05 мм
Плоскасць паверхні:2(1)@632,8 нм
Якасць паверхні:20/10
Шырыня лініі:мінімум 0,003 мм
Краі:Зазямленне, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Чыстая дыяфрагма:90%
Паралелізм:<5”
Пакрыццё:Непразрысты хром высокай аптычнай шчыльнасці, укладкі <0,01%@бачная даўжыня хвалі
Празрыстая вобласць, AR: R<0,35%@бачная даўжыня хвалі
Працэс:Шкло вытраўлена і заліта сілікатам натрыю і дыяксідам тытана -
Лазернае ахоўнае акно з плаўленага дыяксіду крэмнія
Ахоўныя вокны Fused Silica - гэта спецыяльна распрацаваная оптыка з аптычнага шкла Fused Silica, якая забяспечвае выдатныя ўласцівасці прапускання ў бачным і блізкім інфрачырвоным дыяпазонах даўжынь хваль. Гэтыя вокны, вельмі ўстойлівыя да тэрмічнага ўдару і здольныя супрацьстаяць высокай шчыльнасці магутнасці лазера, забяспечваюць важную абарону лазерных сістэм. Іх трывалая канструкцыя гарантуе, што яны могуць вытрымліваць інтэнсіўныя тэрмічныя і механічныя нагрузкі без шкоды для цэласнасці кампанентаў, якія яны абараняюць.
-
Дакладная аптычная шчыліна – Chrome on Glass
Субстрат:B270
Памяркоўнасць:-0,1 мм
Допуск па таўшчыні:±0,05 мм
Плоскасць паверхні:3(1)@632,8 нм
Якасць паверхні:40/20
Шырыня лініі:0,1 мм і 0,05 мм
Краі:Зазямленне, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Чыстая дыяфрагма:90%
Паралелізм:<5”
Пакрыццё:Непразрысты хром высокай аптычнай шчыльнасці, укладкі <0,01%@бачная даўжыня хвалі -
Дакладныя плоска-ўвагнутыя і падвойныя ўвагнутыя лінзы
Субстрат:CDGM / SCHOTT
Памяркоўнасць:-0,05 мм
Допуск па таўшчыні:±0,05 мм
Допуск радыуса:±0,02 мм
Плоскасць паверхні:1（0,5）@632,8 нм
Якасць паверхні:40/20
Краі:Ахоўны скос па меры неабходнасці
Чыстая дыяфрагма:90%
Цэнтраванне:<3'
Пакрыццё:Rabs<0,5%@Дызайн Даўжыня хвалі -
Стадыя мікраметраў каліброўка шкалы сеткі
Субстрат:B270
Памяркоўнасць:-0,1 мм
Допуск па таўшчыні:±0,05 мм
Плоскасць паверхні:3(1)@632,8 нм
Якасць паверхні:40/20
Шырыня лініі:0,1 мм і 0,05 мм
Краі:Зазямленне, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Чыстая дыяфрагма:90%
Паралелізм:<5”
Пакрыццё:Непразрысты хром высокай аптычнай шчыльнасці, укладкі <0,01%@бачная даўжыня хвалі
Празрыстая вобласць, AR: R<0,35%@бачная даўжыня хвалі -
Плоскавыпуклыя лінзы лазернага класа
Субстрат:УФ-плаўлены кремнезем
Памяркоўнасць:-0,1 мм
Допуск па таўшчыні:±0,05 мм
Плоскасць паверхні:1（0,5）@632,8 нм
Якасць паверхні:40/20
Краі:Зазямленне, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Чыстая дыяфрагма:90%
Цэнтраванне:<1'
Пакрыццё:Rabs<0,25%@Дызайн Даўжыня хвалі
Парог пашкоджання:532 нм: 10 Дж/см², імпульс 10 нс
1064 нм: 10 Дж/см², імпульс 10 нс -
Дакладныя прыцэльныя сеткі – Chrome on Glass
Субстрат:B270 /N-BK7 / H-K9L
Памяркоўнасць:-0,1 мм
Допуск па таўшчыні:±0,05 мм
Плоскасць паверхні:3(1)@632,8 нм
Якасць паверхні:20/10
Шырыня лініі:Мінімум 0,003 мм
Краі:Зазямленне, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Чыстая дыяфрагма:90%
Паралелізм:<30”
Пакрыццё:Аднаслаёвы MgF2, Ravg<1,5%@Распраектная даўжыня хваліЛінія/кропка/фігура: Cr або Cr2O3
-
Алюмініевае пакрыццё Люстэрка для шчыліннай лямпы
Субстрат: B270®
Памяркоўнасць:±0,1 мм
Допуск па таўшчыні:±0,1 мм
Плоскасць паверхні:3（1）@632,8 нм
Якасць паверхні:60/40 або лепш
Краі:Прызямленне і чарненне, 0,3 мм макс. Фаска на поўную шырыню
Задняя паверхня:Зямля і чарненне
Чыстая дыяфрагма:90%
Паралелізм:<5 ″
Пакрыццё:Ахоўнае алюмініевае пакрыццё, R>90%@430-670nm,AOI=45°
